檢索結果：共7筆資料 檢索策略： "郭俞麟".ccommittee (精準) and cdept.raw="自動化及控制研究所"
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隨著科技近代之發展，為求在越加縮減面積的晶片上實現更強大的功能，除電路本身之微縮技術需逐步改進之外，將電路設計往立體化發展亦是新的發展思路。電路於立體化發展前，線路本身即已藉由大量的微影製程所構成，…
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由於半導體的快速的發展，使晶片的功能越多且越快，在晶片高速運作下必然是 會產生大量的熱量。而目前晶片的縮小化，對於晶片散熱仍然是一個重要的課題，大 量的熱量累積在一個晶片上或是晶片上的一個部分，…
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近年對於晶片的需求大幅增長，而其電路設計圖案依賴於微影技術將其轉印至矽基板上，並且隨著關鍵尺寸(Critical Dimension)的日漸微縮、單位面積下所容納的電路圖案增多以及晶片尺寸增大的趨勢…
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曝光微影技術是印刷電路板(printed circuit board, PCB)製程中的重要技術之一，近年來製程中對精密度要求不斷提高，並要求更高解析度更小的線寬，使得傳統接觸印刷製程之缺點越來越明…
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半導體製程技術的進步促使元件結構的微縮，除了對製程技術迎來更大的挑戰，同時也需要更有效率的量測方法來驗證製程結果。關鍵尺寸(Critical dimension)量測技術是驗證製程標準的關鍵步驟。傳…
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在數位微影製程中，像差對半導體和微機電系統製造品質的影響至關重要， 因此，有效地校正由數位微影系統產生的畸變是提升製程良率的重大研究議題。 在本篇研究中，我們深入探討數位微影系統的畸變補償問題，並提…
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雷射直寫技術之於黃光微影製程的優勢是無需光罩，而以雷射光束聚焦在光阻上直接定義電路圖案，對此一個基於雙軸振鏡的雷射掃描系統，能夠將數十微米的聚焦光點快速定位在曝光面的任意處，不過掃描過程中存在像場變…